nanoArch S140 10μm精度微納3D列印系統是可以實現高精度大幅面微尺度3D列印的裝置系統╃•╃，它採用的是面投影微立體光刻（PμSL││•▩：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技術☁₪•。該技術使用高精密紫外光刻投影系統╃•╃，將需列印圖案投影到樹脂槽液麵╃•╃，在液麵固化樹脂並快速微立體成型╃•╃，從數字模型直接加工三維複雜的模型和樣件╃•╃，完成樣品的製作☁₪•。

nanoArch P140 10μm精度微納3D列印系統是科研級3D列印系統╃•╃，擁有10μm的超高列印精度和10μm的超低列印層厚╃•╃，從而實現超高精度的樣件製作╃•╃，非常適合高校和研究機構用於科學研究及應用創新☁₪•。

microArch S240 10μm高精度微納3D列印系統基於BMF摩方的技術⸺面投影微立體光刻技術（PμSL）構建╃•╃，並融入了摩方自主開發的多項技術☁₪•。摩方PμSL是一種微米級精度的3D光刻技術╃•╃，這一技術利用液態樹脂在UV光照下的光聚合作用╃•╃，使用滾刀快 速塗層技術大大降低每層列印的時間╃•╃，並透過列印平臺三維移動逐層累積成型製作出複雜三維器件☁₪•。

3D列印內窺鏡服務 為全球客戶提供列印力學超材料✘╃◕、三維複雜仿生結構✘╃◕、生物醫療器件✘╃◕、微機械結構✘╃◕、微流控樣件等科研加工服務╃•╃，以及聯結器✘╃◕、內窺鏡✘╃◕、接外掛等工業加工服務☁₪•。