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當前位置╃│▩•▩:首頁  >  產品展示  >  精密加工  >  光刻技術  >  nanoArch S130 光刻技術

光刻技術

簡要描述╃│▩•▩:nanoArch S130 2μm高精度微納3D列印系統基於BMF摩方的技術⸺面投影微立體光刻技術(PμSL)構建╃☁,並融入了摩方自主開發的多項技術₪│。

  • 產品型號╃│▩•▩:nanoArch S130
  • 廠商性質╃│▩•▩:生產廠家
  • 更新時間╃│▩•▩:2021-08-23
  • 訪  問  量╃│▩•▩:347

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詳細介紹

品牌自營品牌應用領域醫療衛生,食品,生物產業,電子,製藥
光學精度2μm列印材料光敏樹脂
列印層厚5-20μm最大列印尺寸50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)
光源UV LED(405nm)

一₪│·、3D光刻技術介紹

摩方PµSL是一種微米級精度的3D光刻技術╃☁,這一技術利用液態樹脂在UV光照下的光聚合作用╃☁,使用滾刀快 速塗層技術大大降低每層列印的時間╃☁,並透過列印平臺三維移動逐層累積成型製作出複雜三維器件₪│。


在三維複雜結構微納加工領域╃☁,BMF Material團隊擁有超過二十年的科研經驗╃☁,針對客戶在專案研究中可能出現的工藝和材料難題╃☁,我們將持續提供簡易高效的技術支援方案₪│。



二₪│·、3D光刻技術功能介紹

先進的薄膜滾刀塗層技術允許更高的列印速度╃☁,使列印速度最高提升10倍以上;

能夠處理高達20000cps的高粘度樹脂╃☁,從而生產出耐候性更強₪│·、功能更強大的零部件;

能夠列印工業級複合聚合物和陶瓷光敏材料╃☁,包括與巴斯夫合作開發的全新功能工程材料₪│。


三₪│·、微納3D列印系統列印材料

通用型

丙烯酸類光敏樹脂╃☁,比如HDDA╃☁,PEGDA等₪│。


工業級複合聚合物╃☁,例如高粘度樹脂₪│·、陶瓷漿料等₪│。


個性化

高強度硬性樹脂₪│·、奈米顆粒摻雜樹脂₪│·、生物醫用樹脂等₪│。




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