高精密增材製造3D列印

一··╃、高精密增材製造3D列印介紹

nanoArch S130 2μm精度微納3D列印系統由摩方精密自主研發的高精密微納3D列印系統✘◕。裝置採用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術₪↟│，是目前行業極少能實現超高列印精度··╃、高公差加工能力的3D列印系統✘◕。PμSL技術使用高精度紫外光刻投影系統₪↟│，將需列印模型分層投影至樹脂液麵₪↟│，快速微立體成型₪↟│，從數字模型直接加工三維複雜工業樣件✘◕。該技術具有成型效率高··╃、加工成本低等突出優勢₪↟│，被認為是目前非常具有前景的微尺度加工技術之一✘◕。

二··╃、高精密增材製造3D列印基本引數

光源▩••：UV-LED(405nm)

列印材料▩••：硬性樹脂··╃、耐高溫樹脂··╃、韌性樹脂··╃、生物相容性樹脂等

光學精度▩••：2μm

列印層厚▩••：5-20μm

列印尺寸▩••：

①模式一▩••：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（單投影模式）

②模式二▩••：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）

③模式三▩••：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重複陣列模式）

檔案格式▩••：STL

系統外形尺寸▩••：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量▩••：550kg

電氣要求▩••：200-240V AC,50/60HZ,3kW

三··╃、應用領域

nanoArch S130 2μm精度微納3D列印系統可廣泛應用於力學超材料··╃、生物醫療··╃、微機械結構··╃、微流控··╃、三維複雜仿生結構等領域✘◕。