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高精密增材製造3D列印

簡要描述▩••:高精密增材製造3D列印是由摩方精密自主研發的超高精度微尺度3D列印系統✘◕。裝置採用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術₪↟│,是目前行業極少能實現超高列印精度··╃、高公差加工能力的3D列印系統✘◕。

  • 產品型號▩••:
  • 廠商性質▩••:生產廠家
  • 更新時間▩••:2021-11-02
  • 訪  問  量▩••:434

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詳細介紹

品牌自營品牌應用領域醫療衛生,食品,生物產業,電子,製藥
光學精度2μm列印材料光敏樹脂
列印層厚5-20μm最大列印尺寸50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)
光源UV LED(405nm)

一··╃、高精密增材製造3D列印介紹

nanoArch S130 2μm精度微納3D列印系統由摩方精密自主研發的高精密微納3D列印系統✘◕。裝置採用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術₪↟│,是目前行業極少能實現超高列印精度··╃、高公差加工能力的3D列印系統✘◕。PμSL技術使用高精度紫外光刻投影系統₪↟│,將需列印模型分層投影至樹脂液麵₪↟│,快速微立體成型₪↟│,從數字模型直接加工三維複雜工業樣件✘◕。該技術具有成型效率高··╃、加工成本低等突出優勢₪↟│,被認為是目前非常具有前景的微尺度加工技術之一✘◕。

 

二··╃、高精密增材製造3D列印基本引數

光源▩••:UV-LED(405nm)

列印材料▩••:硬性樹脂··╃、耐高溫樹脂··╃、韌性樹脂··╃、生物相容性樹脂等

光學精度▩••:2μm

列印層厚▩••:5-20μm

列印尺寸▩••:

①模式一▩••:3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)(單投影模式)

②模式二▩••:38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)(拼接模式)

③模式三▩••:50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)(重複陣列模式)

檔案格式▩••:STL

系統外形尺寸▩••:1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量▩••:550kg

電氣要求▩••:200-240V AC,50/60HZ,3kW

 

三··╃、應用領域

nanoArch S130 2μm精度微納3D列印系統可廣泛應用於力學超材料··╃、生物醫療··╃、微機械結構··╃、微流控··╃、三維複雜仿生結構等領域✘◕。

 

高精密增材製造

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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