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品牌 | 自營品牌 | 應用領域 | 醫療衛生,食品,生物產業,電子,製藥 |
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光學精度 | 2μm | 列印材料 | 光敏樹脂 |
列印層厚 | 5-20μm | 最大列印尺寸 | 50mm(L)×50mm(W)×10mm(H) |
光源 | UV LED(405nm) |
一··╃、高精密增材製造3D列印介紹
nanoArch S130 2μm精度微納3D列印系統由摩方精密自主研發的高精密微納3D列印系統✘◕。裝置採用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術₪↟│,是目前行業極少能實現超高列印精度··╃、高公差加工能力的3D列印系統✘◕。PμSL技術使用高精度紫外光刻投影系統₪↟│,將需列印模型分層投影至樹脂液麵₪↟│,快速微立體成型₪↟│,從數字模型直接加工三維複雜工業樣件✘◕。該技術具有成型效率高··╃、加工成本低等突出優勢₪↟│,被認為是目前非常具有前景的微尺度加工技術之一✘◕。
二··╃、高精密增材製造3D列印基本引數
光源▩••:UV-LED(405nm)
列印材料▩••:硬性樹脂··╃、耐高溫樹脂··╃、韌性樹脂··╃、生物相容性樹脂等
光學精度▩••:2μm
列印層厚▩••:5-20μm
列印尺寸▩••:
①模式一▩••:3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)(單投影模式)
②模式二▩••:38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)(拼接模式)
③模式三▩••:50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)(重複陣列模式)
檔案格式▩••:STL
系統外形尺寸▩••:1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)
重量▩••:550kg
電氣要求▩••:200-240V AC,50/60HZ,3kW
三··╃、應用領域
nanoArch S130 2μm精度微納3D列印系統可廣泛應用於力學超材料··╃、生物醫療··╃、微機械結構··╃、微流控··╃、三維複雜仿生結構等領域✘◕。
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