高精密增材製造3D列印

一◕╃·₪、高精密增材製造3D列印介紹

nanoArch S130 2μm精度微納3D列印系統由摩方精密自主研發的高精密微納3D列印系統╃↟│▩。裝置採用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術╃•◕，是目前行業極少能實現超高列印精度◕╃·₪、高公差加工能力的3D列印系統╃↟│▩。PμSL技術使用高精度紫外光刻投影系統╃•◕，將需列印模型分層投影至樹脂液麵╃•◕，快速微立體成型╃•◕，從數字模型直接加工三維複雜工業樣件╃↟│▩。該技術具有成型效率高◕╃·₪、加工成本低等突出優勢╃•◕，被認為是目前非常具有前景的微尺度加工技術之一╃↟│▩。

二◕╃·₪、高精密增材製造3D列印基本引數

光源││：UV-LED(405nm)

列印材料││：硬性樹脂◕╃·₪、耐高溫樹脂◕╃·₪、韌性樹脂◕╃·₪、生物相容性樹脂等

光學精度││：2μm

列印層厚││：5-20μm

列印尺寸││：

①模式一││：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（單投影模式）

②模式二││：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）

③模式三││：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重複陣列模式）

檔案格式││：STL

系統外形尺寸││：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量││：550kg

電氣要求││：200-240V AC,50/60HZ,3kW

三◕╃·₪、應用領域

nanoArch S130 2μm精度微納3D列印系統可廣泛應用於力學超材料◕╃·₪、生物醫療◕╃·₪、微機械結構◕╃·₪、微流控◕╃·₪、三維複雜仿生結構等領域╃↟│▩。