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光固化3D列印

簡要描述✘◕☁:光固化3D列印是由摩方精密自主研發的超高精度微尺度3D列印系統•✘╃☁。裝置採用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術↟₪╃,是目前行業極少能實現超高列印精度◕·₪◕│、高公差加工能力的3D列印系統•✘╃☁。

  • 產品型號✘◕☁:
  • 廠商性質✘◕☁:生產廠家
  • 更新時間✘◕☁:2021-08-19
  • 訪  問  量✘◕☁:341

詳細介紹

品牌自營品牌應用領域醫療衛生,食品,生物產業,電子,製藥
光學精度2μm列印材料光敏樹脂
列印層厚5-20μm最大列印尺寸50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)
光源UV LED(405nm)

一◕·₪◕│、光固化3D列印產品介紹

裝置採用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術↟₪╃,該技術使用高精密紫外光刻投影系統↟₪╃,將需列印圖案投影到樹脂槽液麵↟₪╃,在液麵固化樹脂並快速微立體成型↟₪╃,從數字模型直接加工三維複雜的模型和樣件↟₪╃,完成樣品的製作•✘╃☁。該技術具備成型效率高◕·₪◕│、列印精度高等突出優勢↟₪╃,被認為是目前最有前景的微納加工技術之一•✘╃☁。




二◕·₪◕│、光固化3D列印基本引數

光源✘◕☁:UV-LED(405nm)

列印材料✘◕☁:硬性樹脂◕·₪◕│、耐高溫樹脂◕·₪◕│、韌性樹脂◕·₪◕│、生物相容性樹脂等

光學精度✘◕☁:2μm

列印層厚✘◕☁:5-20μm

列印尺寸✘◕☁:

①模式一✘◕☁:3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)(單投影模式)

②模式二✘◕☁:38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)(拼接模式)

③模式三✘◕☁:50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)(重複陣列模式)

檔案格式✘◕☁:STL

系統外形尺寸✘◕☁:1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量✘◕☁:550kg

電氣要求✘◕☁:200-240V AC,50/60HZ,3kW


三◕·₪◕│、應用領域

nanoArch S130 2μm精度微納3D列印系統可廣泛應用於力學超材料◕·₪◕│、生物醫療◕·₪◕│、微機械結構◕·₪◕│、微流控◕·₪◕│、三維複雜仿生結構等領域•✘╃☁。

作為微納3D列印行業↟₪╃,在三維複雜結構微納加工領域↟₪╃,BMF Material團隊擁有超過二十年的科研經驗↟₪╃,針對客戶在專案研究中可能出現的工藝和材料難題↟₪╃,我們將持續提供簡易高效的技術支援方案•✘╃☁。













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