光固化3D列印

一◕·₪◕│、光固化3D列印產品介紹

裝置採用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術↟₪╃，該技術使用高精密紫外光刻投影系統↟₪╃，將需列印圖案投影到樹脂槽液麵↟₪╃，在液麵固化樹脂並快速微立體成型↟₪╃，從數字模型直接加工三維複雜的模型和樣件↟₪╃，完成樣品的製作•✘╃☁。該技術具備成型效率高◕·₪◕│、列印精度高等突出優勢↟₪╃，被認為是目前最有前景的微納加工技術之一•✘╃☁。

二◕·₪◕│、光固化3D列印基本引數

光源✘◕☁：UV-LED(405nm)

列印材料✘◕☁：硬性樹脂◕·₪◕│、耐高溫樹脂◕·₪◕│、韌性樹脂◕·₪◕│、生物相容性樹脂等

光學精度✘◕☁：2μm

列印層厚✘◕☁：5-20μm

列印尺寸✘◕☁：

①模式一✘◕☁：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（單投影模式）

②模式二✘◕☁：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）

③模式三✘◕☁：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重複陣列模式）

檔案格式✘◕☁：STL

系統外形尺寸✘◕☁：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量✘◕☁：550kg

電氣要求✘◕☁：200-240V AC,50/60HZ,3kW

三◕·₪◕│、應用領域

nanoArch S130 2μm精度微納3D列印系統可廣泛應用於力學超材料◕·₪◕│、生物醫療◕·₪◕│、微機械結構◕·₪◕│、微流控◕·₪◕│、三維複雜仿生結構等領域•✘╃☁。

作為微納3D列印行業↟₪╃，在三維複雜結構微納加工領域↟₪╃，BMF Material團隊擁有超過二十年的科研經驗↟₪╃，針對客戶在專案研究中可能出現的工藝和材料難題↟₪╃，我們將持續提供簡易高效的技術支援方案•✘╃☁。