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品牌 | 自營品牌 | 應用領域 | 醫療衛生,食品,生物產業,電子,製藥 |
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光學精度 | 10μm |
一▩│◕╃、摩方精密3D列印產品介紹
nanoArch®是採用PUSL(面投影微立體光刻)技術◕✘,用於實現高精度多材料微納尺度3D列印的裝置↟₪◕◕。透過將紫外光投影到液態樹脂表面使其固化◕✘,逐層累加從而完成產品的製作↟₪◕◕。透過一次曝光可以完成一層的製作↟₪◕◕。
科研級3D列印系統◕✘,擁有超高列印精度和超低列印層厚◕✘,從而實現超高精度的樣件製作◕✘,非常適合高校和研究機構用於科學研究及應用創新↟₪◕◕。
二▩│◕╃、摩方精密3D列印產品特性
1▩│◕╃、可定製高定位精度的光學系統和運動平臺◕✘,兩者最高解析度皆可達到20μm↟₪◕◕。
2▩│◕╃、採用影象拼接成型方式解決成型精度與大尺寸成型之間的矛盾↟₪◕◕。
3▩│◕╃、透過工藝技術控制◕✘,實現3D列印成品的表面光滑↟₪◕◕。
4▩│◕╃、光學方面▩☁:光學實時監控◕✘,實現自動對焦及曝光補償↟₪◕◕。
5▩│◕╃、軟體系統▩☁:nanoArch圖形介面控制系統◕✘,引數埠開放↟₪◕◕。
三▩│◕╃、使用環境要求
1▩│◕╃、需避免的場合▩☁:
垃圾▩│◕╃、灰塵▩│◕╃、油霧多的場所;
震動以及衝擊多的場所;
能觸及藥品和易燃易爆物的場所;
高頻干擾源附近的場所;
溫度會急劇變化的場所;
在CO2▩│◕╃、NOX▩│◕╃、SOX等濃度高的環境中↟₪◕◕。
2▩│◕╃、環境溼度▩☁:40%-60%
3▩│◕╃、環境溫度▩☁:25±3℃
4▩│◕╃、電力需求▩☁:
100-240V/單相/50/60Hz/15A;
供電電網波動▩☁:<5%;
電網地線符合機房國標要求↟₪◕◕。
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