摩方精密3D列印

一☁·、摩方精密3D列印產品介紹

nanoArch®是採用PUSL（面投影微立體光刻）技術☁╃，用於實現高精度多材料微納尺度3D列印的裝置╃•▩✘。透過將紫外光投影到液態樹脂表面使其固化☁╃，逐層累加從而完成產品的製作╃•▩✘。透過一次曝光可以完成一層的製作╃•▩✘。

科研級3D列印系統☁╃，擁有超高列印精度和超低列印層厚☁╃，從而實現超高精度的樣件製作☁╃，非常適合高校和研究機構用於科學研究及應用創新╃•▩✘。

二☁·、摩方精密3D列印產品特性

1☁·、可定製高定位精度的光學系統和運動平臺☁╃，兩者最高解析度皆可達到20μm╃•▩✘。

2☁·、採用影象拼接成型方式解決成型精度與大尺寸成型之間的矛盾╃•▩✘。

3☁·、透過工藝技術控制☁╃，實現3D列印成品的表面光滑╃•▩✘。

4☁·、光學方面·↟↟••：光學實時監控☁╃，實現自動對焦及曝光補償╃•▩✘。

5☁·、軟體系統·↟↟••：nanoArch圖形介面控制系統☁╃，引數埠開放╃•▩✘。

三☁·、使用環境要求

1☁·、需避免的場合·↟↟••：

垃圾☁·、灰塵☁·、油霧多的場所；

震動以及衝擊多的場所；

能觸及藥品和易燃易爆物的場所；

高頻干擾源附近的場所；

溫度會急劇變化的場所；

在CO2☁·、NOX☁·、SOX等濃度高的環境中╃•▩✘。

2☁·、環境溼度·↟↟••：40%-60%

3☁·、環境溫度·↟↟••：25±3℃

4☁·、電力需求·↟↟••：

100-240V/單相/50/60Hz/15A；

供電電網波動·↟↟••：＜5%；

電網地線符合機房國標要求╃•▩✘。