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摩方精密3D列印

簡要描述·↟↟••:摩方精密3D列印是科研級3D列印系統☁╃,擁有10μm的超高列印精度和10μm的超低列印層厚☁╃,從而實現超高精度的樣件製作☁╃,非常適合高校和研究機構用於科學研究及應用創新☁╃,為客戶提供好的3D列印服務體驗╃•▩✘。

  • 產品型號·↟↟••:
  • 廠商性質·↟↟••:生產廠家
  • 更新時間·↟↟••:2021-11-02
  • 訪  問  量·↟↟••:840

詳細介紹

品牌自營品牌應用領域醫療衛生,食品,生物產業,電子,製藥
光學精度10μm

一☁·、摩方精密3D列印產品介紹

nanoArch®是採用PUSL(面投影微立體光刻)技術☁╃,用於實現高精度多材料微納尺度3D列印的裝置╃•▩✘。透過將紫外光投影到液態樹脂表面使其固化☁╃,逐層累加從而完成產品的製作╃•▩✘。透過一次曝光可以完成一層的製作╃•▩✘。

科研級3D列印系統☁╃,擁有超高列印精度和超低列印層厚☁╃,從而實現超高精度的樣件製作☁╃,非常適合高校和研究機構用於科學研究及應用創新╃•▩✘。

 

二☁·、摩方精密3D列印產品特性

1☁·、可定製高定位精度的光學系統和運動平臺☁╃,兩者最高解析度皆可達到20μm╃•▩✘。

2☁·、採用影象拼接成型方式解決成型精度與大尺寸成型之間的矛盾╃•▩✘。

3☁·、透過工藝技術控制☁╃,實現3D列印成品的表面光滑╃•▩✘。

4☁·、光學方面·↟↟••:光學實時監控☁╃,實現自動對焦及曝光補償╃•▩✘。

5☁·、軟體系統·↟↟••:nanoArch圖形介面控制系統☁╃,引數埠開放╃•▩✘。

 

三☁·、使用環境要求

1☁·、需避免的場合·↟↟••:

垃圾☁·、灰塵☁·、油霧多的場所;

震動以及衝擊多的場所;

能觸及藥品和易燃易爆物的場所;

高頻干擾源附近的場所;

溫度會急劇變化的場所;

在CO2☁·、NOX☁·、SOX等濃度高的環境中╃•▩✘。

2☁·、環境溼度·↟↟••:40%-60%

3☁·、環境溫度·↟↟••:25±3℃

4☁·、電力需求·↟↟••:

100-240V/單相/50/60Hz/15A;

供電電網波動·↟↟••:<5%;

電網地線符合機房國標要求╃•▩✘。

 

摩方精密3D列印

 

 

 

 

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