摩方精密3D列印

一▩│◕╃、摩方精密3D列印產品介紹

nanoArch®是採用PUSL（面投影微立體光刻）技術◕✘，用於實現高精度多材料微納尺度3D列印的裝置↟₪◕◕。透過將紫外光投影到液態樹脂表面使其固化◕✘，逐層累加從而完成產品的製作↟₪◕◕。透過一次曝光可以完成一層的製作↟₪◕◕。

科研級3D列印系統◕✘，擁有超高列印精度和超低列印層厚◕✘，從而實現超高精度的樣件製作◕✘，非常適合高校和研究機構用於科學研究及應用創新↟₪◕◕。

二▩│◕╃、摩方精密3D列印產品特性

1▩│◕╃、可定製高定位精度的光學系統和運動平臺◕✘，兩者最高解析度皆可達到20μm↟₪◕◕。

2▩│◕╃、採用影象拼接成型方式解決成型精度與大尺寸成型之間的矛盾↟₪◕◕。

3▩│◕╃、透過工藝技術控制◕✘，實現3D列印成品的表面光滑↟₪◕◕。

4▩│◕╃、光學方面▩☁：光學實時監控◕✘，實現自動對焦及曝光補償↟₪◕◕。

5▩│◕╃、軟體系統▩☁：nanoArch圖形介面控制系統◕✘，引數埠開放↟₪◕◕。

三▩│◕╃、使用環境要求

1▩│◕╃、需避免的場合▩☁：

垃圾▩│◕╃、灰塵▩│◕╃、油霧多的場所；

震動以及衝擊多的場所；

能觸及藥品和易燃易爆物的場所；

高頻干擾源附近的場所；

溫度會急劇變化的場所；

在CO2▩│◕╃、NOX▩│◕╃、SOX等濃度高的環境中↟₪◕◕。

2▩│◕╃、環境溼度▩☁：40%-60%

3▩│◕╃、環境溫度▩☁：25±3℃

4▩│◕╃、電力需求▩☁：

100-240V/單相/50/60Hz/15A；

供電電網波動▩☁：＜5%；

電網地線符合機房國標要求↟₪◕◕。