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科研3D印表機

簡要描述◕╃·•☁:科研3D印表機是由摩方精密自主研發的超高精度微尺度3D列印系統◕·↟✘·。裝置採用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術│▩◕·•,是目前行業極少能實現超高列印精度₪│↟、高公差加工能力的3D列印系統◕·↟✘·。

  • 產品型號◕╃·•☁:
  • 廠商性質◕╃·•☁:生產廠家
  • 更新時間◕╃·•☁:2022-03-03
  • 訪  問  量◕╃·•☁:420

詳細介紹

品牌自營品牌應用領域醫療衛生,食品,生物產業,電子,製藥
光學精度10μm列印材料光敏樹脂
列印層厚10-40μm最大列印尺寸19.2mm(L)×10◕·↟✘·。8mm(W)×45mm(H)
光源UV?LED(405nm)

一₪│↟、科研3D印表機介紹

nanoArch P140是科研級3D列印系統│▩◕·•,擁有10μm的超高列印精度和10μm的超低列印層厚│▩◕·•,從而實現超高精度的樣件製作│▩◕·•,非常適合高校和研究機構用於科學研究及應用創新◕·↟✘·。

微納製造 精密必現

nanoArch P140是可以實現高精度微尺度3D列印的裝置系統│▩◕·•,它採用的是面投影微立體光刻技術(PμSL◕╃·•☁:Projection Micro Stereolithography)


二₪│↟、科研3D列印nanoArch P140 系統簡介

nanoArch P140是可以實現高精度微尺度3D列印的裝置系統│▩◕·•,它採用的是面投影微立體光刻(PμSL◕╃·•☁:Projection Micro Stereolithography)技術◕·↟✘·。該技術使用高精密紫外光刻投影系統│▩◕·•,將需列印圖案投影到樹脂槽液麵│▩◕·•,在液麵固化樹脂並快速微立體成型│▩◕·•,從數字模型直接加工三維複雜的模型和樣件│▩◕·•,完成樣品的製作◕·↟✘·。該技術具備成型效率高₪│↟、列印精度高等突出優勢│▩◕·•,被認為是目前最有前景的微納加工技術之一◕·↟✘·。

<strong>科研3D印表機</strong>



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