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品牌 | 自營品牌 | 應用領域 | 醫療衛生,食品,生物產業,電子,製藥 |
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光學精度 | 10μm | 列印材料 | 光敏樹脂 |
列印層厚 | 10-40μm | 最大列印尺寸 | 19.2mm(L)×10◕·↟✘·。8mm(W)×45mm(H) |
光源 | UV?LED(405nm) |
一₪│↟、科研3D印表機介紹
nanoArch P140是科研級3D列印系統│▩◕·•,擁有10μm的超高列印精度和10μm的超低列印層厚│▩◕·•,從而實現超高精度的樣件製作│▩◕·•,非常適合高校和研究機構用於科學研究及應用創新◕·↟✘·。
微納製造 精密必現
nanoArch P140是可以實現高精度微尺度3D列印的裝置系統│▩◕·•,它採用的是面投影微立體光刻技術(PμSL◕╃·•☁:Projection Micro Stereolithography)
二₪│↟、科研3D列印機nanoArch P140 系統簡介
nanoArch P140是可以實現高精度微尺度3D列印的裝置系統│▩◕·•,它採用的是面投影微立體光刻(PμSL◕╃·•☁:Projection Micro Stereolithography)技術◕·↟✘·。該技術使用高精密紫外光刻投影系統│▩◕·•,將需列印圖案投影到樹脂槽液麵│▩◕·•,在液麵固化樹脂並快速微立體成型│▩◕·•,從數字模型直接加工三維複雜的模型和樣件│▩◕·•,完成樣品的製作◕·↟✘·。該技術具備成型效率高₪│↟、列印精度高等突出優勢│▩◕·•,被認為是目前最有前景的微納加工技術之一◕·↟✘·。
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