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2μm精度微納3D列印系統

簡要描述↟╃•▩✘:nanoArch S130 2μm精度微納3D列印系統是由摩方精密自主研發的超高精度微尺度3D列印系統✘│✘。裝置採用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術╃▩▩•,是目前行業極少能實現超高列印精度↟·₪、高公差加工能力的3D列印系統✘│✘。

  • 產品型號↟╃•▩✘:nanoArch S130
  • 廠商性質↟╃•▩✘:生產廠家
  • 更新時間↟╃•▩✘:2021-08-19
  • 訪  問  量↟╃•▩✘:429

產品分類

Product Category

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詳細介紹

品牌自營品牌應用領域醫療衛生,食品,生物產業,電子,製藥
光學精度2μm列印材料光敏樹脂
列印層厚5-20μm最大列印尺寸50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)
光源UV LED(405nm)

一↟·₪、產品介紹

nanoArch S130 2μm精度微納3D列印系統由摩方精密自主研發的高精密微納3D列印系統✘│✘。裝置採用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術╃▩▩•,是目前行業極少能實現超高列印精度↟·₪、高公差加工能力的3D列印系統✘│✘。PμSL技術使用高精度紫外光刻投影系統╃▩▩•,將需列印模型分層投影至樹脂液麵╃▩▩•,快速微立體成型╃▩▩•,從數字模型直接加工三維複雜工業樣件✘│✘。該技術具有成型效率高↟·₪、加工成本低等突出優勢╃▩▩•,被認為是目前非常具有前景的微尺度加工技術之一✘│✘。



二↟·₪、基本引數

光源↟╃•▩✘:UV-LED(405nm)

列印材料↟╃•▩✘:硬性樹脂↟·₪、耐高溫樹脂↟·₪、韌性樹脂↟·₪、生物相容性樹脂等

光學精度↟╃•▩✘:2μm

列印層厚↟╃•▩✘:5-20μm

列印尺寸↟╃•▩✘:

①模式一↟╃•▩✘:3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)(單投影模式)

②模式二↟╃•▩✘:38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)(拼接模式)

③模式三↟╃•▩✘:50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)(重複陣列模式)

檔案格式↟╃•▩✘:STL

系統外形尺寸↟╃•▩✘:1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量↟╃•▩✘:550kg

電氣要求↟╃•▩✘:200-240V AC,50/60HZ,3kW



三↟·₪、應用領域

nanoArch S130 2μm精度微納3D列印系統可廣泛應用於力學超材料↟·₪、生物醫療↟·₪、微機械結構↟·₪、微流控↟·₪、三維複雜仿生結構等領域



四↟·₪、企業簡介

摩方精密(BMF,Boston Micro Fabrication)是全球微尺度3D列印技術及精密加工能力解決方案提供商✘│✘。專注於精密器件免除模具一次成型能力的研發╃▩▩•,提供製造複雜三維微納結構技術解決方案╃▩▩•,同時╃▩▩•,可結合不同材料及工藝╃▩▩•,實現終端產品高效↟·₪、低成本批次化生成及銷售✘│✘。











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