高精密增材製造3D列印是由摩方精密自主研發的超高精度微尺度3D列印系統│▩₪◕₪。裝置採用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術▩▩，是目前行業極少能實現超高列印精度☁•▩、高公差加工能力的3D列印系統│▩₪◕₪。

微納增材製造精度微納3D列印系統是科研級3D列印系統▩▩，擁有10μm的超高列印精度和10μm的超低列印層厚▩▩，從而實現超高精度的樣件製作▩▩，非常適合高校和研究機構用於科學研究及應用創新│▩₪◕₪。

高精密3D列印系統採用的是面投影微立體光刻（PμSL•·╃：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技術和數字微流控晶片│▩₪◕₪。擁有25μm的列印精度和10μm的超低列印層厚▩▩，具備優良的光源穩定性▩▩，非常適合高校和研究機構用於科學研究及應用創新│▩₪◕₪。

nanoArch S130 2μm高精度微納3D列印系統基於BMF摩方的技術⸺面投影微立體光刻技術（PμSL）構建▩▩，並融入了摩方自主開發的多項技術│▩₪◕₪。

microArch S240---3D列印聯結器應用引數•·╃： 最小壁厚0.1mm▩▩，最小間距0.14mm； 快速列印精密結構▩▩，可實現小批次快速驗證│▩₪◕₪。