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  • 摩方精密3D列印
    摩方精密3D列印

    摩方精密3D列印是科研級3D列印系統✘☁••,擁有10μm的超高列印精度和10μm的超低列印層厚✘☁••,從而實現超高精度的樣件製作✘☁••,非常適合高校和研究機構用於科學研究及應用創新✘☁••,為客戶提供好的3D列印服務體驗↟▩↟。

    更新時間▩↟◕↟:2021-11-02型號▩↟◕↟:訪問量▩↟◕↟:798
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  • 微尺度3D列印裝置
    微尺度3D列印裝置

    微尺度3D列印裝置是科研級3D列印系統✘☁••,擁有25μm的列印精度和10μm的超低列印層厚✘☁••,具備優良的光源穩定性✘☁••,非常適合高校和研究機構用於科學研究及應用創新↟▩↟。

    更新時間▩↟◕↟:2021-11-02型號▩↟◕↟:訪問量▩↟◕↟:681
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  • 科研3D印表機
    科研3D印表機

    科研3D印表機是由摩方精密自主研發的超高精度微尺度3D列印系統↟▩↟。裝置採用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術✘☁••,是目前行業極少能實現超高列印精度▩▩↟、高公差加工能力的3D列印系統↟▩↟。

    更新時間▩↟◕↟:2022-03-03型號▩↟◕↟:訪問量▩↟◕↟:680
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  • nanoArch S1303D列印微針
    nanoArch S1303D列印微針

    3D列印微針✘☁••,傾斜微針結構 應用領域▩↟◕↟:仿生材料 特 點▩↟◕↟:整體尺寸▩↟◕↟:10.8 × 6.7 × 1.5 mm³ 最小jian端直徑▩↟◕↟:15 μm 可自由調控jian端尺寸及角度

    更新時間▩↟◕↟:2021-08-19型號▩↟◕↟:nanoArch S130訪問量▩↟◕↟:475
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  • 光敏樹脂3D列印
    光敏樹脂3D列印

    光敏樹脂3D列印系統基於BMF摩方的技術⸺面投影微立體光刻技術(PμSL)構建✘☁••,並融入了摩方自主開發的多項技術↟▩↟。摩方PμSL是一種微米級精度的3D光刻技術✘☁••,這一技術利用液態樹脂在UV光照下的光聚合作用✘☁••,使用滾刀快 速塗層技術大大降低每層列印的時間✘☁••,並透過列印平臺三維移動逐層累積成型製作出複雜三維器件↟▩↟。

    更新時間▩↟◕↟:2021-08-19型號▩↟◕↟:訪問量▩↟◕↟:613
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  • 光固化3D列印
    光固化3D列印

    光固化3D列印是由摩方精密自主研發的超高精度微尺度3D列印系統↟▩↟。裝置採用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術✘☁••,是目前行業極少能實現超高列印精度▩▩↟、高公差加工能力的3D列印系統↟▩↟。

    更新時間▩↟◕↟:2021-08-19型號▩↟◕↟:訪問量▩↟◕↟:511
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